HFU2N60F Todos los transistores

 

HFU2N60F MOSFET. Datasheet. Equivalente. Reemplazo. Hoja de especificaciones. Principales características


   Número de Parte: HFU2N60F
   Tipo de FET: MOSFET
   Polaridad de transistor: N

ESPECIFICACIONES MÁXIMAS

   Pdⓘ - Máxima disipación de potencia: 42 W
   |Vds|ⓘ - Voltaje máximo drenador - fuente: 600 V
   |Vgs|ⓘ - Voltaje máximo fuente - puerta: 30 V
   |Id|ⓘ - Corriente continua de drenaje: 1 A
   Tjⓘ - Temperatura máxima de unión: 150 °C

CARACTERÍSTICAS ELÉCTRICAS

   |Vgs(th)|ⓘ - Tensión umbral entre puerta y fuente: 4 V
   Qgⓘ - Carga de la puerta: 6.5 nC
   trⓘ - Tiempo de subida: 17 nS
   Cossⓘ - Capacitancia de salida: 37 pF
   Rds(on)ⓘ - Resistencia estado encendido drenaje a fuente: 4.5 Ohm
   Paquete / Cubierta: TO251
 

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HFU2N60F Datasheet (PDF)

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HFU2N60F

May 2017 HFU2N60F / HFD2N60F 600V N-Channel MOSFET Features Key Parameters Parameter Value Unit Originative New Design BVDSS 600 V Very Low Intrinsic Capacitances ID 2 A Excellent Switching Characteristics RDS(on), Typ 3.6 100% Avalanche Tested Qg, Typ 6.5 nC RoHS Compliant HFU2N60F HFD2N60F Symbol TO-251 TO-252 D S S G D G Ab

 7.1. Size:211K  shantou-huashan
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HFU2N60F

N-Channel MOSFET Shantou Huashan Electronic Devices Co.,Ltd. HFU2N60 APPLICATIONSL TO-251 High-Speed Switching. ABSOLUTE MAXIMUM RATINGSTa=25 TstgStorage Temperature-55~150 1G Tj Operating Junction Temperature 150 2D PD Allowable Power DissipationTc=25

 7.2. Size:381K  semihow
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HFU2N60F

June 2015BVDSS = 600 VRDS(on) typ = 4 HFD2N60U / HFU2N60U ID = 1.8 A600V N-Channel MOSFETD-PAK I-PAKFEATURES21 Originative New Design13 23 Superior Avalanche Rugged TechnologyHFD2N60U HFU2N60U Robust Gate Oxide Technology 1.Gate 2. Drain 3. Source Very Low Intrinsic Capacitances Excellent Switching Characteristics Unrivalled Gate Charge : 5.5 nC (T

 7.3. Size:230K  semihow
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HFU2N60F

March 2014BVDSS = 600 VRDS(on) typ HFD2N60S / HFU2N60SID = 1.9 A600V N-Channel MOSFETD-PAK I-PAK2FEATURES113 23 Originative New DesignHFD2N60S HFU2N60S Superior Avalanche Rugged Technology1.Gate 2. Drain 3. Source Robust Gate Oxide Technology Very Low Intrinsic Capacitances Excellent Switching Characteristics Unrivalled Gate Charge : 6.0 nC

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