EV3401 MOSFET Equivalente. Reemplazo. Hoja de especificaciones. Principales características
Número de Parte: EV3401
Tipo de FET: MOSFET
Polaridad de transistor: P
ESPECIFICACIONES MÁXIMAS
Pdⓘ - Máxima disipación de potencia: 2.2 W
|Vds|ⓘ - Voltaje máximo drenador-fuente: 30 V
|Vgs|ⓘ - Voltaje máximo fuente-puerta: 12 V
|Id|ⓘ - Corriente continua de drenaje: 4.2 A
Tjⓘ - Temperatura máxima de unión: 150 °C
CARACTERÍSTICAS ELÉCTRICAS
trⓘ - Tiempo de subida: 3 nS
Cossⓘ - Capacitancia de salida: 172 pF
RDSonⓘ - Resistencia estado encendido drenaje a fuente: 0.06 Ohm
Encapsulados: SOT23
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EV3401 datasheet
ev3401.pdf
Eternal Semiconductor Inc. EV3401 P-Channel Enhancement-Mode MOSFET (-30V, -4.2A) PRODUCT SUMMARY VDSS ID RDS(on) (m ) Typ. 53 @ VGS = -10 V,ID=-4.2A -30V -4.2A 64 @ VGS = -4.5V,ID=-4.0A 86 @ VGS = -2.5V,ID=-1.0A Features Super high dense cell trench design for low RDS(on) Rugged and reliable SOT-23-3L package Lead Pb -free and halogen-free EV3401 Pin Assignm
ev3400.pdf
Eternal Semiconductor Inc. EV3400 N-Channel Enhancement-Mode MOSFET (30V, 5.8A) PRODUCT SUMMARY VDSS ID RDS(on) (m ) Typ. 25@ VGS = 10 V,ID=5.8A 30V 5.8A 36@ VGS = 4.5 V,ID=5.0A 40@ VGS = 2.5V,ID=4.0A Features Super high dense cell trench design for low RDS(on) Rugged and reliable SOT-23-3L package Lead Pb -free and halogen-free EV3400 Pin Assignment & Symb
ev3404.pdf
Eternal Semiconductor Inc. EV3404 N-Channel Enhancement-Mode MOSFET (30V, 5.8A) PRODUCT SUMMARY VDSS ID RDS(on) (m )Typ. 25 @ VGS = 10 V,ID=5.8A 30V 5.8A 36@ VGS = 4.5V,ID=4.0A Features Super high dense cell trench design for low RDS(on) Rugged and reliable SOT-23-3L package Lead Pb -free and halogen-free EV3404 Pin Assignment & Symbol 3-Lead Plastic SOT-23-
ev3407.pdf
Eternal Semiconductor Inc. EV3407 P-Channel Enhancement-Mode MOSFET (-30V, -4.3A) PRODUCT SUMMARY VDSS ID RDS(on) (m )TYP 50 @ VGS = -10 V, ID=-4.3A -30V -4.3A 63 @ VGS = -4.5V, ID=-3.0A Features Advanced Trench Process Technology High Density Cell Design for Ultra Low On-Resistance Fully Characterized Avalanche Voltage and Current Improved Shoot-Through FOM O
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